UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)
簡(jiǎn)要描述:UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)是用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣,是科學(xué)研究、生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)理想的磨拋設(shè)備之一。本機(jī)設(shè)置了Ø300mm的研磨拋光盤(pán)和兩個(gè)加工工位,可用于研磨拋光≤Ø105mm的圓片或?qū)蔷€長(zhǎng)≤105mm的矩形平面。
產(chǎn)品型號(hào):
所屬分類(lèi):拋光機(jī)
更新時(shí)間:2024-11-05
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)適用于各種材料的研磨與拋光,本機(jī)設(shè)置了?300mm的研磨拋光盤(pán)和兩個(gè)
加工工位,可用于研磨拋光≤?80mm的平面。UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)若搭配合適的輔助設(shè)備可以
得到高質(zhì)量的研磨表面,還可以對(duì)一定的特殊樣品(如地質(zhì)薄片)進(jìn)行研磨與拋光。
產(chǎn)品詳細(xì)介紹:UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)是用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、
耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣,是科學(xué)研究、生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)理想的磨拋設(shè)備之一。本機(jī)設(shè)置了?300mm
的研磨拋光盤(pán)和兩個(gè)加工工位,可用于研磨拋光≤?105mm的圓片或?qū)蔷€長(zhǎng)≤105mm的矩形平面。在研磨過(guò)程
中兩個(gè)加工工位可以一定的頻率左右擺動(dòng),同時(shí)推動(dòng)載物塊左右擺動(dòng),載物塊在進(jìn)行自轉(zhuǎn)的同時(shí)隨著研磨盤(pán)公轉(zhuǎn),
使樣品做無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng),使研磨后的樣品表面質(zhì)量均勻。研磨拋光機(jī)配備的載物塊是具有高的平面度和平行度的精
密圓柱狀金屬塊,使研磨后的樣品表面也具有高的平面度,并且不會(huì)使樣品邊緣倒角,對(duì)邊緣要求高的樣品尤其
適合。UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)若配置適當(dāng)?shù)母郊℅PC-80A精密磨拋控制儀),可批量生產(chǎn)高質(zhì)量
的平面磨拋產(chǎn)品。搭配GPC-80A使用尤其適用于地質(zhì)薄片樣品的研磨與拋光。UNIPOL-1202精密研磨拋光機(jī)可
以用研磨盤(pán)加磨料的方式研磨樣品,也可以選用拋光盤(pán)貼砂紙的方式研磨樣品,砂紙或拋光墊采用磁力吸附的方
式裝卡,裝卸方便。具體選用砂紙研磨還是磨料研磨可根據(jù)被研磨樣品的材質(zhì)進(jìn)行選擇。
性能指標(biāo)和基本配置 | |||||
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安裝條件 | ● 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 | ||||
主要特點(diǎn) | ● 超平拋光盤(pán)(平面度為每25mm×25mm小于0.0025mm)。 | ||||
技術(shù)參數(shù) | ● 電源:110/220V | ||||
產(chǎn)品尺寸 | 700mm×420mm×350mm | ||||
產(chǎn)品重量 | 80kg | ||||
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 鑄鐵研磨盤(pán) | 1個(gè) | ||
2 | 鑄鋁拋光盤(pán) | 1個(gè) | |||
3 | 載物盤(pán) | 2個(gè) | |||
4 | 修盤(pán)環(huán) | 2個(gè) | |||
5 | 拋光墊(磨砂革、合成革、聚氨酯) | 各1片 | |||
6 | 剛玉研磨微粉 | 0.5kg | |||
7 | 石蠟棒 | 4根 | |||
可選配件 | ● SKZD-2滴料器 |
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